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2026

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微透镜阵列排布间距 (Array Pitch) 异常管控：白...

一、工艺痛点与传统检测局限微透镜阵列排布间距（Array Pitch）是决定匀光、光束匹配、光学耦合性能的核心几何参数，其排布一致性直接影响半导体光学器件的成品性...

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2026

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05

基于白光干涉仪的超光滑样品微观形貌表征与工艺异常溯源研究

一、研究概述超光滑光学样品是精密光学、半导体、激光器件等高端产业的核心基材，其表面纳米级粗糙度、微观形貌及微结构缺陷，直接影响器件光学透过率、镀膜品质与使用寿命。...

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2026

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05

白光干涉仪排查微透镜成型制程曲率半径偏差隐患解决方案

一、行业制程痛点与检测需求微透镜及微透镜阵列是光电成像、光纤耦合、光传感、半导体光学系统的核心精密元件，曲率半径作为其核心几何参数，直接决定元件聚焦性能与成像质量...

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2026

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05

白光干涉仪高精度表征下超光滑样品表面瑕疵与工艺误差关联性研究

一、研究背景与检测技术优势超光滑样品是极紫外光学元件、半导体晶圆、高能激光器件等高端领域的核心基材，其表面微观划痕、麻点、凹凸缺陷及全域面形误差，会直接降低光学成...

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